Китай выпускает первый стандарт полупроводникового генератора озона, стимулируя отечественную индустрию полупроводникового оборудования

Китайская полупроводниковая промышленность достигла важной вехи с официальным выпуском и внедрением первого в стране группового стандарта для генераторов озона полупроводникового класса. «Технические требования к генераторам озона полупроводникового класса» (T/CIET 1946-2025), выпущенные 9 декабря 2025 года, были разработаны компанией Qingdao Guolin Semiconductor Technology Co., Ltd. в сотрудничестве с 17 ведущими предприятиями в цепочке поставок полупроводников.

Этот знаменательный стандарт заполняет критический пробел во внутренних технических спецификациях на озоновое оборудование, используемое в производстве полупроводников и панельных дисплеев. Генераторы озона играют незаменимую роль в ключевых полупроводниковых процессах, включая осаждение тонких пленок, очистку пластин и удаление фоторезиста, где их технические характеристики и надежность напрямую влияют на производительность изготовления чипов.

Технология озоновых машин стала незаменимой на современных заводах по производству полупроводников, где требования к чистоте поверхности достигли точности на атомном уровне. Недавние лабораторные испытания показывают, что современные системы очистки озоном УФ-излучением могут уменьшить количество органических загрязнений на кремниевых пластинах с 50 нм до всего лишь 0,5 нм, достигая 100-кратного повышения эффективности очистки по сравнению с традиционными методами. Этот уровень точности имеет решающее значение по мере продвижения отрасли к технологическим узлам 5 и 3 нм.

Промышленные генераторы озона, предназначенные для полупроводниковых применений, используют методы коронного разряда или ультрафиолета для создания точных концентраций озона, адаптированных к конкретным производственным требованиям. В отличие от традиционных процессов влажной очистки, в которых используются серная кислота и перекись водорода, которые могут оставлять химические остатки и образовывать значительные объемы сточных вод, очистка на основе озона предлагает сухую альтернативу без остатков, которая естественным образом разлагается на кислород после использования.

Недавно установленный стандарт был разработан в результате широкого сотрудничества с участием ключевых игроков отрасли, включая Beijing North Huachuang Microelectronics Equipment Co., HuaHai Qingke Co., Tuojing Semiconductor Equipment, Shengmei Semiconductor Equipment и других. Такое широкое участие отрасли обеспечивает научную строгость, применимость и репрезентативность стандарта во всей полупроводниковой экосистеме.

Применение машин озоновой дезинфекции выходит за рамки очистки пластин и включает в себя передовые процессы окисления для удаления органических загрязнений из оборудования и объектов по производству полупроводников. Эта технология эффективно устраняет остатки фоторезиста, следы органических растворителей и переносимые по воздуху молекулярные загрязнения, которые могут снизить выход чипов.

Работа по стандартизации, начавшаяся с утверждения проекта в марте 2025 года и завершившаяся окончательным выпуском в декабре 2025 года, устанавливает комплексные технические характеристики и критерии надежности оборудования для генерации озона. Это предоставляет производителям полупроводников четкие, поддающиеся количественной оценке критерии выбора оборудования и проверки процесса.

Отраслевые аналитики прогнозируют, что к 2030 году мировой рынок генераторов озона достигнет $2,36 млрд, а среднегодовой темп роста составит 8,0%, отчасти благодаря увеличению инвестиций в инфраструктуру производства полупроводников и потребности в передовых решениях для очистки. Новый китайский стандарт позволяет отечественным производителям более эффективно конкурировать на этом расширяющемся рынке, одновременно поддерживая более широкую национальную инициативу по укреплению отечественного потенциала полупроводникового оборудования.

Ожидается, что в будущем внедрение этого стандарта ускорит внедрение генераторов озона отечественного производства на китайских заводах по производству полупроводников, снизив зависимость от импортного оборудования и одновременно обеспечив стабильное качество и производительность. Поскольку полупроводниковая промышленность продолжает быстро расширяться, стандартизированная озоновая технология будет играть все более важную роль в создании точных, незагрязненных производственных сред, необходимых для производства чипов следующего поколения.